对铝及其合金的抛光一般采用机械抛光、化学抛光和电解抛光，其中化学抛光是金属在特定条件下的化学侵蚀，即金属材料表面在配比合理的腐蚀剂、氧化剂、添加剂组成的抛光溶液中发生一系列的化学反应，使得金属微观表面不均匀的氧化膜在抛光溶液中降低表面的微观粗糙度，使金属表面平整光亮。
以硫酸为主要成分的酸性抛光液，这类体系的抛光液由有机酸酯、增白剂、表面活性剂等组成；在这里酸的作用是氧化剂和出光剂；有机酸酯起缓蚀作用，并能稳定抛光液；增白剂改善抛光件的色泽；表面活性剂起润湿作用，有利于抛光后工件表面色泽的均匀，并且还有脱脂的作用。
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在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在，因此陶瓷层的形成过程非常复杂，至今还没有一个合理的模型能描述陶瓷层的形成。
微弧氧化工艺将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域，克服了硬质阳极氧化的缺陷，极大地提高了膜层的综合性能。
微弧氧化膜层与基体结合牢固，结构致密，韧性高，具有良好的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性。
该技术具有操作简单和膜层功能可控的特点，而
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